Проектированием инженерной инфраструктуры занимается компания «Системные решения», получившая контракт на 21 млн рублей. Сама установка, способная наносить слои алюминия, титана и нитрида титана, разрабатывается при поддержке Минпромторга: на 2026 год на эти цели заложено около 2 млрд рублей. Технологический комплекс позволит формировать проводящие дорожки и защитные покрытия на 200-миллиметровых пластинах без участия западных систем.
Зеленоград готовит базу для производства российских чипов
В зеленоградском НИИ молекулярной электроники стартовало создание специализированной чистой комнаты площадью 350 квадратных метров. Площадка станет домом для первой отечественной промышленной установки вакуумного напыления, призванной заменить импортное оборудование американских и швейцарских компаний при выпуске микросхем по техпроцессам 180–90 нанометров.
Производство микроэлектроники требует ювелирной точности среды. Основная зона с напылительным оборудованием должна соответствовать стандарту чистоты ISO 6, где воздух фильтруется от частиц размером до 0,3 микрона. В помещении необходимо поддерживать строгий температурный режим в 22 градуса, влажность на уровне 50% и минимальный уровень вибраций. Помимо очистки воздуха, проект включает системы подачи сверхчистых газов, резервное питание и экранирование от электромагнитных помех. Полноценный запуск восьмимодульной установки с роботизированными манипуляторами намечен на сентябрь 2030 года.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!