Разработка лазерной системы стала для Москвы и Минска пропуском в ограниченный клуб государств, владеющих технологией литографии. Помимо этого проекта, Россия наращивает усилия в области электронно-лучевой литографии, необходимой для создания фотошаблонов. В Зеленограде на финальной стадии находится запуск научно-технологического центра, где в будущем планируют освоить топологические нормы вплоть до 28 нанометров.
Россия и Белоруссия представили прототип литографа для чипов
Первый вице-премьер Денис Мантуров объявил о создании совместного российско-белорусского опытного образца литографической установки. Аппарат предназначен для выпуска микросхем по техпроцессу 130 нанометров, а его ключевым компонентом стал эксимерный лазер собственной разработки, что позволило странам расширить технологические компетенции в сфере производства полупроводниковой продукции.
Параллельно с оборудованием решается вопрос импортозамещения расходных материалов. За последние три года российская промышленность локализовала выпуск около 60 критически важных химических продуктов и материалов, необходимых для работы микроэлектронных производств.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!