Проект возглавляет Евгений Гиваргизов, чья команда добилась создания источников электронных пучков с радиусом вершины в 1,5–2 нанометра. В отличие от зарубежных аналогов, использующих сложные системы расщепления одного луча с обилием зеркал, российская установка формирует множество независимых источников на общей подложке. Такая архитектура упрощает конструкцию, снижает энергопотребление и требования к инфраструктуре предприятия.
Российские инженеры проектируют литограф с 3000-кратным ускорением
Разработчики завершили научно-исследовательский этап создания многолучевого электронного литографа, способного радикально ускорить выпуск микросхем. Переход от однолучевой технологии к массивам независимых пучков позволит сократить время обработки одной кремниевой пластины с двух недель до нескольких минут, что ставит проект в один ряд с передовыми мировыми достижениями в микроэлектронике.
Первый опытный образец может быть представлен через три года. Система рассчитана на производство микросхем с топологическими нормами от 350 нм до нескольких нанометров, хотя итоговое разрешение будет зависеть от характеристик используемых фоторезистов.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!