Заводы Zeiss остаются единственным в мире источником оптических колонн, зеркал и осветительных модулей для EUV-литографии. Зависимость ASML от партнера достигла критических значений: объемы выпуска машин напрямую упираются в производственные мощности немцев. Чтобы снять эти ограничения, компания инвестирует в расширение площадок не только в Оберкохене, но и в Вецларе, а также в Россдорфе и Южной Корее.
Zeiss масштабирует производство оптики для чипов нового поколения
Немецкая Zeiss SMT наращивает площади в Оберкохене на 25 тысяч квадратных метров, чтобы удовлетворить глобальный спрос на литографическое оборудование. Именно здесь создаются критически важные оптические системы для сканеров ASML, без которых невозможно массовое производство микросхем по техпроцессу 2 нанометра и ниже.
Техническая сложность изделий поражает: одна оптическая колонна для систем High-NA EUV насчитывает свыше 40 тысяч деталей и весит 12 тонн. Обработка и проверка зеркал требуют ювелирной точности, где допустимые отклонения измеряются долями нанометра. Финансовая поддержка со стороны ASML уже измеряется миллиардами евро, включая кредитные линии и авансы. Ставка оправдана: выручка подразделения Zeiss SMT за последний год подскочила на 23%, достигнув 5,055 млрд евро, что сделало это направление главным драйвером всей группы.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!