Разработка охватывает семь ключевых установок, включая генераторы изображений, системы лазерной ретуши и комплексы контроля дефектности. Инженерные решения позволят не только формировать рисунок чипа, но и оперативно устранять ошибки на шаблонах, что существенно снижает производственные потери. Завершение работ по большинству систем намечено на 2026 год, финальные этапы программы закроют в 2027-м.
Россия и Белоруссия создают собственную линию для выпуска чипов
Россия и белорусское предприятие «Планар» объединили усилия для разработки оборудования, необходимого при производстве 65-нанометровых микросхем. Проект закрывает критический пробел в технологическом цикле, позволяя создавать фотошаблоны — основу для переноса схем на кремниевые пластины, без которых выпуск современных полупроводников невозможен.
Основная нагрузка по проектированию лежит на «Планаре», сохранившем профильные компетенции со времен СССР. Российская сторона выступает в роли заказчика и интегратора, обеспечивая финансовую базу. Инициатива вписывается в государственную программу развития электронного машиностроения с бюджетом более 240 млрд рублей. Цель Москвы — к 2030 году заместить до 70% импортных станков и расходных материалов в отечественном микроэлектронном секторе.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!