Два опытных экземпляра литографа сейчас проходят комплексную проверку, рассчитанную на ближайшие четыре месяца. Технология ориентирована на научно-исследовательские задачи, создание прототипов и выпуск специализированной электроники, включая компоненты для космической отрасли. Отказ от использования масок делает этот метод оптимальным для НИОКР, где требуется высокая гибкость при создании микросхем.
Зеленоградский центр представил установку для производства 150-нм чипов
Зеленоградский нанотехнологический центр перешел к испытаниям первых образцов оборудования для безмасковой электронно-лучевой литографии. Новая установка позволяет формировать рисунок микросхем с топологическими нормами 150 нанометров напрямую на кремниевых подложках, минуя этап изготовления дорогостоящих масок для каждого отдельного прототипа или малой серии изделий.
Хотя электронно-лучевой метод проигрывает классической фотолитографии в скорости и не годится для потокового производства, он остается критически важным инструментом для независимых разработок. Ранее Зеленоградский нанотехнологический центр уже представил фотолитограф с разрешением 350 нм и сейчас продолжает работу над оборудованием с проектными нормами 130 нм.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!