Зеленоградский центр разработал установку для безмасковой литографии

Технология позволяет наносить топологию микросхем непосредственно на пластины с помощью сфокусированного пучка электронов. В отличие от традиционной фотолитографии, где изображение переносится через трафарет, этот метод избавляет от необходимости заказывать дорогостоящие фотошаблоны для каждого заказа. Подобный подход оптимален для выпуска прототипов, мелкосерийных партий спецтехники или изделий для нужд оборонной и космической промышленности, где создание масок экономически не оправдано. Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев уточнил, что сейчас оборудование проходит проверку, а в дальнейшем планируется его отправка заказчику.

Эксперты отмечают, что, несмотря на гибкость, безмасковый метод проигрывает классическим установкам в скорости серийного производства. Кроме того, успех проекта напрямую зависит от доступности качественных электронно-чувствительных резистов и точности систем управления пучком. Ранее ЗНТЦ уже демонстрировал фотолитограф с разрешением 350 нм и заявлял о планах по освоению технологий 90 и 130 нм, что является частью долгосрочной стратегии по развитию отечественного оборудования для микроэлектроники.